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      镀膜种类划分情况

      镀膜按类型划分,首先可以分为:干式镀膜和湿式镀膜两种。

      其中干式镀膜主要有:真空蒸发镀膜、溅射镀膜、真空离子镀膜3种

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      真空蒸发镀膜可细分为:

      电阻蒸发镀膜(适用于蒸发低熔点材料,如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等)

      电子束蒸发镀膜(可蒸发难熔金属,如钼、钨、锗、二氧化硅、氧化铝等)

      高频感应加热蒸发镀膜(蒸发速率大,蒸发源温度稳定,操作简单,对材料纯度要求较宽)

      电弧加热蒸发镀膜(特别适用于熔点高,同时具有一定导电性的材料,如石墨;装置简单,较廉价,缺点是放电产生的微米级颗粒会影响膜的一致性)

      激光束蒸发镀膜(可蒸发任何高熔点材料)

      反应蒸发镀膜(蒸镀难熔化合物,如氟化镁、氧化钡、氧化锡等)

      溅射镀膜可分为:

      直流二极溅射:仅适用于导电膜

      直流三极溅射:仅适用于导电膜

      直流四极溅射:仅适用于导电膜

      射频溅射:采用射频电源,可镀氧化硅,氧化铝材料

      对向靶溅射:可提高沉积速率,制取磁性铁、镍和其他磁性合金膜

      离子束(IBS)溅射:利用离子源发出离子

      磁控溅射:

      碳硫分析仪在直流二极溅射的基础上,在靶材后面安放了磁钢,使用弧光发

      电,用于蒸发源。

      真空离子镀膜可分为:

      阴极电弧离子镀:提高了沉积速率和膜的质量;还可生成致密均匀,附着力优良的化合物膜

      空心阴极离子镀:使用空心阴极等离子电子束

      多弧离子镀

      湿式镀膜可分四种:

      电镀

      阳极氧化

      化学镀

      化学转化膜处理

      
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